마스크정렬노광시스템
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|---|---|
| 단축명 | Mask Aligner |
| 모델명 | MA/BA6 |
| 설치장소 | 표면분석실//제2공학관 25202호 |
| 제작사 | SUSS MicroTec |
| 도입년도/가격 | 201511 / 0 |
| 담당자 | 홍문규(Hong Moon-Kyu) 031-299-6764 |
| 장비용도 | |
| Mask Alignment for semiconductor | |
| 기본사양 | |
| -SUSS MicroTec, MA/BA6 -사용료: 샘플당 30,000원(교내) | |
연구장비 소개
마스크정렬노광시스템
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|---|---|
| 단축명 | Mask Aligner |
| 모델명 | MA/BA6 |
| 설치장소 | 표면분석실//제2공학관 25202호 |
| 제작사 | SUSS MicroTec |
| 도입년도/가격 | 201511 / 0 |
| 담당자 | 홍문규(Hong Moon-Kyu) 031-299-6764 |
| 장비용도 | |
| Mask Alignment for semiconductor | |
| 기본사양 | |
| -SUSS MicroTec, MA/BA6 -사용료: 샘플당 30,000원(교내) | |