• 자연과학캠퍼스(수원)
  제2종합연구동 83626호, 83630호
• 031)290-7430

본 연구소는 반도체 및 첨단 소자 제조 공정의 핵심인 초미세 생산 기술 분야의 연구를 지속적으로 수행하여, CMP(Chemical Mechanical Planarization), 초임계 유체 세정(Supercritical Fluid Cleaning) 등 나노스케일 가공·세정 공정 기술을 중심으로 차세대 반도체 및 디스플레이 산업에서 요구되는 초정밀·초청정 공정 기술의 개발과 실용화를 목표로 함. 이를 통해 산업체와의 긴밀한 산학 협력 연구를 활성화하고, 관련 원천 기술의 확보 및 전문 기술인력 양성을 지원함. 또한 국내외 워크샵 및 심포지엄을 통해 최신 기술 동향과 연구 성과를 공유함으로써 반도체 공정 기술 분야의 학술 교류와 국제 반도체 기술 확보에 기여하고자 함.

연구소장

• 김태성 교수 (성균관대학교 기계공학부)

참여교수

• 성균관대학교 기계공학부 교수 2명, 산학교수 1명, 연구교수 2명

주요분야

• CMP(화학기계적 평탄화) 공정 및 슬러리·패드 소재 연구
• 초임계 유체(CO₂) 세정 기술 및 장비 개발
• 나노스케일 표면 처리 및 오염 제어 기술
• 차세대 반도체 초미세 공정 기술 개발 및 실용화