[반도체특성화대학사업단]HARC(High asepct ratio contact) plasma etch 기술의 발전과 미래, 그리고 기술적 특이점
- ice
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- 2024-02-06
삼성전자 민재호 상무(Dry etch, Flash Process Development Team) 초청강연
일시: 2024.2.6.(화) 오후 3:30~5:30
장소: 제1공학관 23219호
강연 주제: HARC(High asepct ratio contact) plasma etch 기술의 발전과 미래, 그리고 기술적 특이점
많은 참석 부탁 드립니다.