닫기
통합검색
 
분석실 안내

연구장비 소개

분석실 안내

연구장비 소개

광전자분광기1(XPS1)

광전자분광기1
사진
영문명/단축명 X-ray Photoelectron Spectrometer 1(ESCALAB250) / XPS 1 (ESCALAB250)
모델명 ESCALAB250
설치장소 표면분석실 / [81B111]기기분석실Ⅰ
제작사 Thermofisher
도입년도/가격 2015년 4월/ 1,400,000,000원
담당자/연락처/e-mail 이은영(Lee Eunyoung) / 031-299-6750 / ley1231@skku.edu

 

♦ Features

 

• Surface analysis

시료 표면으로부터 대략 5 nm 이내의 영역에 대한 분석

Sputter cleaning (Ar ion beam)으로 시료 표면 에칭 후 분석 가능

• Depth Profile

Ar ion etching으로 시료 표면 에칭 후 분석하는 과정을 원하는 횟수만큼 반복, 수 십~수 백 nm정도의 깊이방향 분석

 

♦ Specification

 

• Dimensions (W x D x H) [(mm)] : 1900 x 1630 x 2000

• Performance

UPS

Micro-foucssed Monochromated XPS

ARXPS (Angle Resolved XPS)

Depth profiling

PARALLEL XPS Image

ISS

REELS

Preparation chamber and fully automated system

• Configuration

UHV Chamber with pumping system

anlayser

ion source

viewing facilities

data system

• Energy analysis range : 0 to 5,000eV

• Ultimate Energy resolution (of Ag 3d5/2 peak) : < 0.45 eV FWHM

•  Min. energy setp size : 6 meV Combined Low Enengy Electron / Ion flood source for Charge Neutralisation

 

♦ Application

 

• 표면 연구, 반도체의 밴드 구조와 같은 원자의 전자 구조 연구, 복잡한 염 화학 물질 연구, 충치 예방 연구에 이르기까지 광범위한 응용 분야

• 신제품 개발 및 생산기술 향상에 활용합니다. 금속 및 반도체 산업뿐만 아니라 촉매 산업, 유리 등의 입자 및 절연 물질 분석, 고분자 필름 등의 유기 물질 분석

• 반도체 표면오염 등의 제조공정관리와 같은 공장에서 대량생산의 제품 품질관리와 부식, 변색의 원인분석 등 불량분석

 

• Survey Scan

• Narrow Scan

• Depth Profile(#SiO2_Si wafer)